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        作者:史軼夫 來源:中國新聞網 發布時間:2022/6/21 20:45:21
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        哈工大科研團隊攻克超黑涂層常溫制備技術瓶頸

         

        中新網哈爾濱6月21日電 (記者 史軼夫)哈爾濱工業大學21日發布消息,該?;づc化學學院吳曉宏教授團隊在超黑涂層技術領域取得重要突破,團隊攻克了超黑涂層常溫制備技術瓶頸,得到了一種朗伯特性顯著的高穩定超黑涂層。

        超黑涂層能吸收幾乎所有照射在其上的光,應用領域十分廣泛,絕大多數精密光學儀器都需要超黑涂層來屏蔽光學干擾,提升信噪比和探測能力。此外,超黑涂層能夠隱藏高低起伏的物體輪廓,可為設備或人員提供必要的保護。

        吳曉宏教授團隊的超黑涂層技術經第三方權威機構檢測,寬光譜吸收高達99.8%,光線80°入射時總散射積分低至1.5%,可凝揮發物為0.00%。全面滿足多種基體、復雜形面、超大面積實施工藝和空間極端環境應用需求,性能與技術成熟度均優于全球現役同類產品。

        20多年來,吳曉宏教授團隊潛心攻關、攻堅克難,產學研用一體化研究不斷取得突破。針對工況條件,“量身定制”出一系列滿足服役環境的超黑涂層,已交付遮光罩、擋光板、光闌筒定標黑體等產品數千件,成功應用于中國風云、海洋、高分、環境、通信技術試驗等數十顆國家型號衛星和天啟、天雁、天拓等近百顆商業衛星,有效提升了中國航天器光學載荷的在軌探測能力和定位精度,為保證載荷全壽命周期高性能穩定運行提供了必要條件。(完)

         
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